Stephanie Butler

อ้างโดย

	ทั้งหมด	ตั้งแต่ปี 2020
การอ้างอิง	2848	318
ดัชนี h	25	8
ดัชนี i10	42	8

200

100

150

19931994199519961997199819992000200120022003200420052006200720082009201020112012201320142015201620172018201920202021202220232024202510 43 47 42 82 64 64 85 85 117 113 116 121 185 163 138 116 105 131 91 99 112 86 66 69 99 55 68 43 65 70 60 12

การเข้าถึงแบบสาธารณะ

ดูทั้งหมด

2 บทความ

0 บทความ

ใช้งานได้

ใช้ไม่ได้

อิงตามข้อกำหนดในการรับเงินสนับสนุน

ผู้เขียนร่วม

Barry M. WisePresident, Eigenvector Researchยืนยันอีเมลแล้วที่ eigenvector.com
Duane BoningMassachusetts Institute of Technologyยืนยันอีเมลแล้วที่ mtl.mit.edu
Yoshio NishiElectrical Engineering, Stanford Universityยืนยันอีเมลแล้วที่ stanford.edu
Juergen HahnRensselaer Polytechnic Institute, Texas A&M University, University of Texas at Austin, Biomedicalยืนยันอีเมลแล้วที่ rpi.edu
Taber SmithAnalog Inferenceยืนยันอีเมลแล้วที่ analog-inference.com
Kenneth ButlerAdvantestยืนยันอีเมลแล้วที่ ieee.org
Donald SofgeNaval Research Laboratoryยืนยันอีเมลแล้วที่ ieee.org
Christina DiMarinoAssistant Professor, Center for Power Electronics Systems (CPES), Virginia Techยืนยันอีเมลแล้วที่ vt.edu
Tim McDonaldInfineonยืนยันอีเมลแล้วที่ infineon.com
Sulagna ChatterjeeProfessor of Chemical Engineering, Heritage Institute of Technologyยืนยันอีเมลแล้วที่ heritageit.edu
Thomas A. Badgwell PhD, PEProfessor of Practice, McKetta Department of Chemical Engineering, The University of Texas at Austinยืนยันอีเมลแล้วที่ che.utexas.edu
Katherine A. KimNational Taiwan Universityยืนยันอีเมลแล้วที่ ntu.edu.tw
Bilal AkinProfessor, University of Texas at Dallasยืนยันอีเมลแล้วที่ utdallas.edu
Antonio L P RotondaroTokyo Electron Americaยืนยันอีเมลแล้วที่ us.tel.com
Satyavolu Papa RaoVP for Research, NY CREATESยืนยันอีเมลแล้วที่ ny-creates.org
Sneha NarasimhanResearch Scientist - Power Electronics, ABBยืนยันอีเมลแล้วที่ us.abb.com
M. MeyyappanNASA Ames Research Centerยืนยันอีเมลแล้วที่ nasa.gov
Marium RasheedPower Electronics and HV Battery Systems Research Engineer, Fordยืนยันอีเมลแล้วที่ ford.com
Nayara Brandão de FreitasAssistant Researcher, INESC TECยืนยันอีเมลแล้วที่ inesctec.pt
Shi PuMicron Technology| University of Texas at Dallasยืนยันอีเมลแล้วที่ utdallas.edu

ติดตาม

Stephanie Butler

Technology Innovation Architect

ยืนยันอีเมลแล้วที่ wattsbutler.com - หน้าแรก

power semiconductors advanced process control semiconductor packaging wide bandgap


ชื่อ เรียงตามการอ้างอิง เรียงตามปี เรียงตามชื่อ	อ้างโดย อ้างโดย	ปี
Supervisory run-to-run control of polysilicon gate etch using in situ ellipsometry SW Butler, JA Stefani IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 7 (2), 193-201, 1994	358	1994
A comparison of principal component analysis, multiway principal component analysis, trilinear decomposition and parallel factor analysis for fault detection in a semiconductor … BM Wise, NB Gallagher, SW Butler, DD White, GG Barna Journal of Chemometrics 13 (3‐4), 379-396, 1999	356	1999
Automatic control in microelectronics manufacturing: Practices, challenges, and possibilities TF Edgar, SW Butler, WJ Campbell, C Pfeiffer, C Bode, SB Hwang, ... Automatica 36 (11), 1567-1603, 2000	331	2000
Virtual sensor based monitoring and fault detection/classification system and method for semiconductor processing equipment GG Barna, SW Butler, DA Sofge, DA White US Patent 5,864,773, 1999	168	1999
Development and benchmarking of multivariate statistical process control tools for a semiconductor etch process: improving robustness through model updating NB Gallagher, BM Wise, SW Butler, DD White Jr, GG Barna IFAC Proceedings Volumes 30 (9), 79-84, 1997	131	1997
Apparatus and method for model based process control MF Sullivan, JS Hirsch, SW Butler, NJ Tovell, JA Stefani, PK Mozumder, ... US Patent 5,402,367, 1995	109	1995
Run by run advanced process control of metal sputter deposition T Smith, J Stefani, D Boning, S Butler Proceedings of the Second International Symposium on Process Control …, 1997	84	1997
Spatial characterization of wafer state using principal component analysis of optical emission spectra in plasma etch DA White, D Boning, SW Butler, GG Barna IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 10 (1), 52-61, 1997	80	1997
Modeling and control of microelectronics materials processing TA Badgwell, T Breedijk, SG Bushman, SW Butler, S Chatterjee, TF Edgar, ... Computers & chemical engineering 19 (1), 1-41, 1995	80	1995
Method and apparatus for process endpoint prediction based on actual thickness measurements S Maung, SW Butler, SA Henck US Patent 5,503,707, 1996	78	1996
Apparatus and method for model based process control MF Sullivan, JS Hirsch, SW Butler, NJ Tovell, JA Stefani, PK Mozumder, ... US Patent 5,838,595, 1998	72	1998
IC test software system for mapping logical functional test data of logic integrated circuits to physical representation S Smith, H Balachandran, J Parker US Patent 6,185,707, 2001	69	2001
Reduction of seed layer roughness for use in forming SiGe gate electrode H Bu, S Butler, R Khamankar, H Niimi US Patent App. 10/263,521, 2004	59	2004
Development of Techniques for Real‐Time Monitoring and Control in Plasma Etching: II. Multivariable Control System Analysis of Manipulated, Measured, and Performance Variables SW Butler, KJ McLaughlin, TF Edgar, I Trachtenberg Journal of the Electrochemical Society 138 (9), 2727, 1991	59	1991
Method and system for identifying process conditions SW Butler, KJ Brankner US Patent 5,458,732, 1995	56	1995
System and method for monitoring and evaluating semiconductor wafer fabrication JA Stefani, SW Butler US Patent 5,399,229, 1995	55	1995
In situ spectral ellipsometry for real‐time thickness measurement: Etching multilayer stacks SA Henck, WM Duncan, LM Lowenstein, SW Butler Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 11 (4 …, 1993	55	1993
Application of predictor corrector control to polysilicon gate etching SW Butler, J Stefani 1993 American Control Conference, 3003-3007, 1993	54	1993
Development of Techniques for Real‐Time Monitoring and Control in Plasma Etching: I. Response Surface Modeling of and Etching of Silicon and Silicon Dioxide KJ McLaughlin, SW Butler, TF Edgar, I Trachtenberg Journal of the Electrochemical Society 138 (3), 789, 1991	42	1991
Process control in semiconductor manufacturing SW Butler Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer …, 1995	41	1995

ระบบไม่สามารถดำเนินการได้ในขณะนี้ โปรดลองใหม่อีกครั้งในภายหลัง

บทความ 1–20

การอ้างอิงต่อปี

การอ้างอิงซ้ำกัน

การอ้างอิงที่รวมเข้าด้วยกัน

เพิ่มผู้เขียนร่วมผู้เขียนร่วม

ติดตาม

อ้างโดย

ผู้เขียนร่วม