John F. Conley, Jr.

John F. Conley, Jr.

Professor of Electrical Engineering and Computer Science, Oregon State University
Подтвержден адрес электронной почты в домене eecs.oregonstate.edu
Цитируется: 8545
metal-insulator-metal (MIM and MIIM) devices atomic layer deposition (ALD) thin film dielectrics high-k oxides electron spin
Lepadatu Ana-Maria

Lepadatu Ana-Maria

National Institute of Materials Physics
Подтвержден адрес электронной почты в домене infim.ro
Цитируется: 790
nanostructured materials based on SiGeSn high-k oxides
Srinivasa Rao Nelamarri

Srinivasa Rao Nelamarri

Assistant Professor of Physics, Malaviya National Institute of Technology Jaipur
Подтвержден адрес электронной почты в домене mnit.ac.in
Цитируется: 527
Nanomaterials high k oxides thin films.
Musbah Hamed

Musbah Hamed

Al Neelain University - Sudan
Подтвержден адрес электронной почты в домене student.lth.se
Цитируется: 133
high-k-oxides optoelectronics nanoelectronics and quantum luminescence
Partha Das

Partha Das

NIT Durgapur
Подтвержден адрес электронной почты в домене phd.nitdgp.ac.in
Цитируется: 36
High k Oxides GaN HEMT XPS Ellipsometry etc.