مقالههای دارای تعهدات انتشار عمومی - Richard Gottschoبیشتر بدانید
جای دیگری دردسترس است: ۳
Predicting synergy in atomic layer etching
KJ Kanarik, S Tan, W Yang, T Kim, T Lill, A Kabansky, EA Hudson, T Ohba, ...
Journal of Vacuum Science & Technology A 35 (5), 2017
تعهدات: US Department of Energy
Future of plasma etching for microelectronics: Challenges and opportunities
GS Oehrlein, SM Brandstadter, RL Bruce, JP Chang, JC DeMott, ...
Journal of Vacuum Science & Technology B 42 (4), 2024
تعهدات: Agence Nationale de la Recherche
Rethinking surface reactions in nanoscale dry processes toward atomic precision and beyond: a physics and chemistry perspective
K Ishikawa, T Ishijima, T Shirafuji, S Armini, E Despiau-Pujo, RA Gottscho, ...
Japanese Journal of Applied Physics 58 (SE), SE0801, 2019
تعهدات: US National Science Foundation, US Department of Energy
اطلاعات انتشارات و تأمین بودجه بهطورخودکار توسط برنامه رایانهای تعیین میشود.